Analysis of boron-, germanium- and fluorine diffusion through a SiO2 gate oxide into silicon using secondary ion mass spectrometry
- Författare
- Fredrik Persson
- (Fredrik Persson, Henrik Svensson)
- Språk
- Engelska
| Förlag | År | Ort | Om boken | ISBN |
|---|---|---|---|---|
| Växjö Univ. Press | 2001? | Sverige, Växjö | 89 sidor. : ill. | 91-7636-296-5 |