Chemical vapour deposition - precursors, processes and applications
- Författare
- (Editors, Anthony C. Jones and Michael L. Hitchman.)
- Språk
- Engelska
| Förlag | År | Ort | Om boken | ISBN |
|---|---|---|---|---|
| Royal Society of Chemistry | 2009 | Storbritannien, Cambridge | xv, 582 sidor. ill. | 978-0-85404-465-8 |
| Royal Society of Chemistry | 2009 | Storbritannien, Cambridge | online resource (xv, 582 sidor.) ill. | 978-1-84755-879-4 |