Integration of silicide nanowires as Schottky barrier source/drain in FinFETs
- Författare
- Zhen Zhang
- Genre
- theses
- Språk
- Engelska
| Förlag | År | Ort | Om boken | ISBN |
|---|---|---|---|---|
| Informations- och kommunikationsteknik, Kungliga Tekniska högskolan | 2008 | Sverige, Stockholm | xvi, 80 sidor. : ill., diagr. | |
| KTH | 2008 | Sverige, Stockholm |