The Source/Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices
- Författare
- Zhiqiang. Li
- (Zhiqiang Li.)
- Språk
- Engelska
| Förlag | År | Ort | Om boken | ISBN |
|---|---|---|---|---|
| Springer Berlin Heidelberg, Imprint: Springer | 2016 | Tyskland, Berlin, Heidelberg | XIV, 59 sidor. 52 illus., 49 illus. in color. online resource. | 978-3-662-49683-1 |