Theoretical study and applications of low pressure chemical vapour deposition processes for VLSI-technology
- Författare
- Zhang Shi-li
- (Shi-li Zhang)
- Språk
- Engelska
| Förlag | År | Ort | Om boken | ISBN |
|---|---|---|---|---|
| 1988 | Sverige, Stockholm | [18] sidor. 30 cm |
| Förlag | År | Ort | Om boken | ISBN |
|---|---|---|---|---|
| 1988 | Sverige, Stockholm | [18] sidor. 30 cm |